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1400℃小型管式爐GSL-1400X是小型高溫管式爐，采用高純氧化鋁剛玉爐管和硅碳棒加熱元件，設有兩個真密封法蘭，控制系統(tǒng)采用高精度可控硅移相觸發(fā)控制，其控溫精度為±1℃，可設置30段升降溫程序，Z高溫度可達1400℃。

1400℃雙溫區(qū)真空氣氛管式爐GSL-1400X-II以硅碳棒為加熱元件，采用S型單鉑銠熱電偶測溫和518P溫控儀自動控溫。本機設有真空裝置，可在多種氣氛下工作，主要用于電子陶瓷產(chǎn)品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）等工藝，特別適合批量生產(chǎn)使用。

1400℃三溫區(qū)真空氣氛管式爐GSL-1400X-Ⅲ以硅碳棒為加熱元件，采用S型單鉑銠熱電偶測溫和708P溫控儀自動控溫。本機設有真空裝置，可在多種氣氛下工作，主要用于電子陶瓷產(chǎn)品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）等工藝，特別適合批量生產(chǎn)使用。

1500℃高溫真空管式爐GSL-1500X是小型高溫管式爐，采用高純氧化鋁剛玉爐管和硅碳棒加熱元件，設有兩個真密封法蘭，控制系統(tǒng)采用高精度可控硅移相觸發(fā)控制，其控溫精度為±1℃，可設置30段升降溫程序，Z高溫度可達1500℃。

1500℃三溫區(qū)開啟式管式爐OTF-1500X-III是高溫管式爐，Z高溫度可達1500℃，三個溫區(qū)分別用三個獨立的溫控系統(tǒng)控制，每個溫區(qū)都可以設置30段升降溫程序，并設有過熱和斷偶保護功能，控溫精度高達±1℃。本機特別適合于在氣氛保護或真空環(huán)境下對樣品進行退火和燒結。